proceso de 10 µm

El proceso de 10 μm (proceso de 10 micrómetros ) es el nivel de tecnología de proceso de semiconductores MOSFET que se alcanzó comercialmente alrededor de 1971, ^{[ 1 ] [ 2 ]} por compañías como RCA e Intel .

El proceso de 10 μm se refiere al tamaño mínimo que se podía producir de forma fiable: el paso medio , que es la distancia entre dos pistas de metal de 1 pulgada, de centro a centro, y la longitud de la puerta de un transistor; estos dos valores solían ser idénticos en los primeros nodos. Los transistores más pequeños y otros elementos de circuito en un chip fabricados con este proceso tenían un ancho aproximado de 10 micrómetros.

• La serie de circuitos integrados CD4000 de RCA comenzó con un proceso de 20 μm en 1968, antes de reducirse gradualmente y finalmente alcanzar los 10 μm en los años siguientes. ^{[ 3 ]}  
• El Intel 1103 , un chip de memoria de acceso aleatorio dinámico (DRAM) de los primeros tiempos, lanzado en 1970, utilizaba un  proceso de 8 μm. ^{[ 4 ]}
• La CPU Intel 4004 , lanzada en 1971, se fabricó utilizando un  proceso de 10 μm. ^{[ 5 ]}
• La CPU Intel 8008 , lanzada en 1972, se fabricó utilizando este proceso. ^{[ 5 ]}

• Breve cronología del desarrollo de microprocesadores. Archivado el 3 de marzo de 2012 en Wayback Machine.