ASML

ASML tiene sus orígenes en la década de 1970 y en la empresa electrónica holandesa Philips . Tras observar que la industria electrónica en general tenía dificultades para reducir el tamaño de los componentes sin perder precisión ni aumentar la contaminación o los defectos, la empresa decidió desarrollar sus propios prototipos de máquinas de litografía, aprovechando el conocimiento consolidado de Philips en los campos de la óptica y la mecánica de precisión. ^{[ 7 ]} A principios de la década de 1980, Philips previó que sería necesaria una inversión adicional considerable para completar su desarrollo, pero esta necesidad surgió en un momento en que la empresa intentaba reducir gastos. En consecuencia, en 1984, la empresa optó por escindir sus actividades de máquinas de litografía en una empresa conjunta con otra empresa holandesa, ASM International , especializada en el suministro de equipos para la industria de semiconductores. ^{[ 7 ]}

La nueva entidad empleó una estrategia comercial diferente a la de sus competidores establecidos; ^{[ 7 ]} al carecer del capital, el tiempo y la experiencia necesarios para llevar a cabo una integración vertical de manera realista , la empresa conjunta optó por subcontratar varios componentes principales, incluidos motores y óptica , a terceros para poder dedicar sus recursos y atención al ensamblaje y la optimización de la máquina final. Esta decisión también influyó en la máquina, que adoptó un diseño modular y utilizó subsistemas claramente definidos. ^{[ 7 ]} Al principio, ASML tuvo dificultades para conseguir clientes, ya que no tenía cuota de mercado ni reconocimiento de marca al inicio de sus operaciones. Además, el primer producto de la empresa, el PAS 2000, fue un fracaso comercial y técnico, pues utilizaba presión de aceite (en lugar de motores eléctricos) para mover la oblea durante la exposición, lo que provocaba fugas; las futuras máquinas de litografía fabricadas por ASML utilizarían motores eléctricos convencionales. ^{[ 7 ]}

A principios de 1988, según se informó, Philips consideró disolver por completo la empresa conjunta tras la retirada de ASM International. Sin embargo, el consejo de administración de Philips contaba con el apoyo suficiente para continuar con las operaciones, lo que le dio a ASML el tiempo necesario para desarrollar otra máquina de litografía, la PAS 5500. ^{[ 7 ]} En consecuencia, en 1988, ASML se convirtió en una entidad independiente que cotizaba en bolsa; ese mismo año, adoptó por primera vez el nombre ASML, ^{[ 8 ]} que es su nombre oficial y no una abreviatura. ^{[ 9 ]}

En 1991, ASML lanzó la PAS 5500, que rápidamente se convirtió en el primer éxito comercial de la compañía. ^{[ 10 ] [ 7 ]} A diferencia de las máquinas de litografía contemporáneas más precisas de la empresa competidora Nikon , el diseño modular utilizado por ASML significaba que sus máquinas podían repararse rápidamente en el sitio, reduciendo el tiempo de inactividad y haciendo posible extender la vida útil de la máquina. Se dice que la ventaja de la facilidad de mantenimiento fue el factor clave que llevó a IBM a ordenar la PAS 5500 en lugar de sus contrapartes japonesas. ^{[ 7 ]} La primera empresa en operar la PAS 5500 fue Micron Technology , uno de los mayores productores mundiales de memoria y almacenamiento de computadoras; se convirtió en el mayor cliente de ASML durante un tiempo. ^{[ 11 ]} El éxito de la línea PAS 5500 impulsó a ASML a un período de intensa competencia con Canon y Nikon, que eran los líderes del mercado de la litografía en ese momento. ^{[ 10 ]}

En 1997, ASML comenzó a estudiar un cambio hacia el uso de luz ultravioleta extrema. ^{[ 7 ]} Dos años después, se unió a un consorcio, que incluía a Intel y otros dos fabricantes de chips estadounidenses, para explotar la investigación fundamental realizada por el Departamento de Energía de los Estados Unidos . Debido a que el Acuerdo de Investigación y Desarrollo Cooperativo (CRADA) bajo el cual opera está financiado por el gobierno de los Estados Unidos, la licencia debe ser aprobada por el Congreso . ^{[ 12 ]} Además, a cambio de que se le permitiera unirse a este consorcio, ASML se comprometió a establecer un centro de investigación con sede en los Estados Unidos y a obtener el 55 por ciento de los componentes para todas las máquinas vendidas en los Estados Unidos de proveedores estadounidenses. ^{[ 7 ]} ASML colaboró ​​con varios fabricantes para obtener espejos, incluidas las empresas belgas IMEC y Sematech , así como la alemana Carl Zeiss . ^{[ 12 ] [ 13 ]}

En 2001, ASML adquirió el fabricante de equipos de litografía estadounidense Silicon Valley Group (SVG) después de que este experimentara problemas de liquidez, ^{[ 7 ] [ 14 ]} La adquisición de SVG, que también ha sido licenciada para resultados de investigación EUV, implicó un acuerdo de ASML para suministrar escáneres de 193 nm a Intel. ^{[ 15 ] [ 16 ]}

En 2002, se convirtió en el mayor proveedor de sistemas de fotolitografía. ^{[ 17 ]} Gracias a la adopción de la arquitectura TWINSCAN de doble etapa para reducir el tiempo de inactividad, las máquinas de ASML podían producir más chips por hora que los productos de cualquier competidor; esta ventaja competitiva era tan fuerte que la empresa podía cobrar precios más altos por sus máquinas y aun así aumentar su cuota de mercado. A finales de la década, había asegurado dos tercios del mercado mundial de litografía y se había convertido en el proveedor dominante para el creciente mercado de teléfonos inteligentes . ^{[ 7 ]}

En diciembre de 2006, ASML anunció la adquisición de la empresa rival BRION Technologies a cambio de 270 millones de dólares; ^{[ 18 ] [ 19 ]} esta transacción la llevó a competir directamente con los principales proveedores de EDA que tenían productos similares: Cadence Design Systems , Synopsys y Mentor Graphics .

A finales de 2008, tras el inicio de la Gran Recesión , ASML experimentó una fuerte caída en las ventas, lo que llevó a la dirección a reducir la plantilla en aproximadamente 1000 personas en todo el mundo, principalmente en su sede central en los Países Bajos, así como en su planta de fabricación de Connecticut; ^{[ 20 ] [ 21 ]} además, la empresa solicitó ayuda al fondo nacional de desempleo neerlandés para evitar despidos aún mayores. ^{[ 22 ]} ASML se había recuperado en 2011, registrando ingresos récord ese año. ^{[ 23 ] [ 24 ]}

A principios de la década de 2010, ASML aumentó drásticamente su presupuesto anual de I+D, pasando de poco menos de 500 millones de dólares en 2010 a 1.000 millones de dólares en 2015. ^{[ 7 ]} Si bien este gasto era necesario para completar el desarrollo de sus máquinas EUV de próxima generación, financiar tales cantidades no fue sencillo. Para lograrlo, ASML lanzó un programa de coinversión en 2012, mediante el cual el 23 por ciento de la empresa se vendió a sus tres mayores clientes: Intel, TSMC y Samsung . ^{[ 7 ]} La inversión de Intel de 4.100 millones de dólares en ASML, realizada en julio de 2012, le otorgó una participación del 15 por ciento en la empresa; se afirmó que esta medida aceleraría la transición de Intel de obleas de 300  mm a obleas de 450 mm , así como apoyar un mayor desarrollo de la litografía EUV. ^{[ 25 ] [ 26 ]} Ese mismo mes, ASML ofreció otro 10 por ciento de sus acciones a otras empresas. ^{[ 27 ]}

Más allá de generar fondos adicionales, estos nuevos interesados ​​fueron incentivados a participar en los esfuerzos de investigación de ASML. TSMC, en particular, trabajó estrechamente con ASML para desarrollar y solucionar problemas en sus máquinas EUV, con el objetivo de utilizarlas para fabricar sus propios productos. ^{[ 7 ]} Como parte de su estrategia EUV, ASML anunció la adquisición del fabricante de fuentes DUV y EUV Cymer a cambio de 2550 millones de dólares en octubre de 2012; ^{[ 28 ] [ 29 ]} esta transacción se completó en mayo de 2013. ^{[ 30 ]} La tecnología de Cymer se consideró útil para el desarrollo de las máquinas EUV de ASML. ^{[ 7 ]}

En noviembre de 2013, ASML detuvo el desarrollo de  equipos de litografía de 450 mm, citando la incertidumbre sobre el momento de la demanda de los fabricantes de chips. ^{[ 31 ]}

A principios de 2015, ASML informó de un caso de robo de propiedad intelectual ; supuestamente, varios empleados habían sido descubiertos robando datos confidenciales de su filial de software en Silicon Valley , que desarrolla software para la optimización de máquinas. ^{[ 32 ] [ 33 ]} Tres años después, ASML recibió una indemnización de 223 millones de dólares relacionada con este incidente, además de obtener la protección de la propiedad intelectual de la empresa infractora. ^{[ 34 ]} Los empleados de ASML a menudo han sido considerados objetivos de reclutamiento muy atractivos para otras empresas tecnológicas. ^{[ 7 ]}

En junio de 2016, ASML anunció sus planes de adquirir Hermes Microvision Inc., con sede en Taiwán, a cambio de aproximadamente 3.100 millones de dólares; se informó que esta transacción aseguraría la tecnología para crear semiconductores más pequeños y avanzados . ^{[ 35 ] [ 36 ]}

En 2018, la administración Trump intentó bloquear la venta de tecnología de ASML a China. ^{[ 37 ] [ 38 ]} Esta medida, que se ha visto como parte de una "guerra fría tecnológica" más amplia entre Estados Unidos y China, pudo haber contribuido a la escasez mundial de chips de 2020-2023 y haber afectado las oportunidades comerciales disponibles para ASML. ^{[ 39 ]}

A lo largo de finales de la década de 2010 y principios de la de 2020, ASML experimentó un período de crecimiento constante de los ingresos, pasando de 13.000 millones de dólares en 2018 a 35.000 millones de dólares en 2024; esto se ha atribuido en gran medida a las máquinas EUV de la empresa, que han recibido un aumento significativo de la demanda durante este período, impulsado por la creciente complejidad y los requisitos de rendimiento de la electrónica moderna. ^{[ 40 ]} En julio de 2020, ASML declaró que había adquirido la empresa alemana de fabricación de vidrio óptico Berliner Glas Group, lo que ayudará a satisfacer la creciente necesidad de componentes para sus sistemas EUV; en el momento de esta adquisición, los pedidos pendientes de ASML habían aumentado, según se informó, a 10.000 millones de euros. ^{[ 41 ] [ 42 ]}

En julio de 2021, el comisario europeo Thierry Breton visitó ASML y anunció el objetivo de que al menos el 20 % de la producción mundial de semiconductores se realizara en Europa para 2030, y el apoyo a través de una Alianza Europea de Semiconductores. ^{[ 43 ]} Tras presentar sus resultados en julio de 2021, la empresa afirmó tener un monopolio casi absoluto en las máquinas utilizadas por TSMC y Samsung para fabricar los chips avanzados. ^{[ 44 ]}

En febrero de 2023, ASML afirmó que un exempleado en China supuestamente robó información sobre la tecnología de la empresa. Esta no era la primera vez que ASML se veía presuntamente vinculada con una infracción de propiedad intelectual relacionada con China. En su informe anual de 2021 , ASML mencionó que Dongfang Jingyuan Electron Limited "comercializaba activamente productos en China que podrían infringir los derechos de propiedad intelectual de ASML". ^{[ 45 ]} En ese momento, el Departamento de Comercio de Estados Unidos expresó su preocupación por el espionaje económico contra ASML. ^{[ 46 ]} En octubre de 2023, el periódico neerlandés NRC Handelsblad informó que el exempleado que supuestamente robó datos sobre la tecnología de ASML posteriormente pasó a trabajar para Huawei . ^{[ 47 ]}

En marzo de 2023, el gobierno neerlandés impuso restricciones a las exportaciones de equipos de chips para proteger la seguridad nacional. Esta medida afectó a ASML, una de las empresas más importantes de la cadena de suministro global de microchips. ^{[ 48 ]} Los requisitos de licencia de exportación entraron en vigor en septiembre de 2023. ^{[ 49 ]} Tres meses después, el Instituto de Derechos Humanos de los Países Bajos dictaminó que, a pesar de que la constitución del país prohíbe la discriminación por motivos de nacionalidad, ASML podía rechazar las solicitudes de empleo de residentes de países sujetos a sanciones en virtud de las Regulaciones de Administración de Exportaciones de EE. UU . (como China, Cuba, Irán, Corea del Norte y Siria) para cumplir con la ley estadounidense. ^{[ 50 ] [ 51 ] [ 52 ]}

En enero de 2024, el gobierno holandés impuso más restricciones al envío de algunos equipos avanzados para la fabricación de chips a China. ^{[ 53 ]} El 6 de septiembre de 2024, el gobierno holandés endureció los controles de exportación sobre ciertos equipos de fabricación de chips de ASML, alineando su política con las restricciones estadounidenses para limitar el acceso de China a tecnología avanzada en medio de preocupaciones geopolíticas y de seguridad. ^{[ 54 ] [ 55 ]} Estas restricciones se ampliaron para endurecer los controles de exportación en enero de 2025, y ASML tuvo que solicitar licencias de exportación al gobierno holandés en lugar de a los estadounidenses. ^{[ 56 ]} En diciembre de 2025, Reuters informó que China había construido en secreto un prototipo de máquina EUV en Shenzhen con la ayuda de antiguos ingenieros de ASML, y se esperaba que la máquina produjera chips funcionales entre 2028 y 2030. ^{[ 57 ]}

Since immersion lithography was first proposed by Burn-Jeng Lin in the 1970s,^[60] ASML cooperated with TSMC. In 2004, TSMC began commercial production of 90 nanometersemiconductor nodes using ASML immersion lithography.^[61] By 2011, their high-end TWINSCAN NXT:1950i system was used for producing features down to 32 nanometres at up to 200 wafers per hour,^[62] using a water immersion lens and an argon fluoride laser that produces light at a wavelength of 193 nm. By 2011, an average lithography machine cost €27 million.^[63]

Deep ultraviolet lithography (DUV) devices from ASML use ultraviolet light to print the tiny features that form the microchip's structure.^[64]

Extreme ultraviolet lithography (EUV) is a critical technology used to create the smallest and most complex chip designs. ASML holds a near-monopoly in the EUV market. The company's machines are capable of etching patterns as small as 8 nanometers, 1/10000 the width of a human hair.^[65]

EUV machines produce light in the 13.5 nm wavelength range by focusing a high-energy laser on microscopic droplets of molten tin to produce a plasma, which then emits EUV light. The light is bounced off Zeiss mirrors onto the surface of a silicon wafer to form the designs for the chip.^[66]

In 2009, the IMEC research center in Belgium produced the world's first functional 22 nm CMOSStatic random-access memory memory cells with a prototype EUV lithography machine.^[67] After decades of development, ASML shipped the first production EUV machine in either 2011^[63] or 2013.^[68]

As of 2022ASML ha enviado alrededor de 140 sistemas EUV. ^{[ 69 ]} El producto EUV más vendido de ASML ha sido el TWINSCAN NXE:3600D, que cuesta hasta 200 millones de dólares. ^{[ 69 ]} La máquina pesa 180 toneladas y necesita tres Boeing 747 para su transporte. ^{[ 39 ]}

ASML está trabajando en la próxima generación de sistemas EUV, con los primeros envíos para I+D a Intel en diciembre de 2023 y a TSMC a finales de 2024. ^{[ 70 ] [ 71 ]} La plataforma se denomina High-NA porque aumenta la apertura numérica (NA) de 0,33 a 0,55. ^{[ 68 ]} Cada sistema cuesta aproximadamente 370 millones de dólares. ^{[ 69 ] [ 71 ] [ 7 ]}