Creación de patrones mediante grabado a nanoescala.

El grabado a nanoescala ( PENs ) es una técnica de litografía blanda en la que se rompen los enlaces de la matriz de polidimetilsiloxano (PDMS) para grabar (disolver) el PDMS de forma controlada y a baja velocidad a lo largo del exterior de un canal de PDMS formado con un sello de PDMS grabado aplicado a una superficie. El canal del sello puede ampliarse desde decenas de nanómetros hasta varios micrómetros , exponiendo así una nueva zona de la superficie que puede reaccionar.

El PDMS contiene cadenas poliméricas de enlaces silicio-oxígeno, que pueden romperse mediante compuestos fluorados , de forma similar a como se preparan las obleas de silicio mediante grabado con ácido fluorhídrico , fluoruro de amonio y compuestos relacionados. Al colocar un sello de PDMS con un canal que puede rellenarse externamente sobre una superficie, esta puede funcionalizarse en la zona del canal. Al hacer pasar una solución de grabado a través del canal, se elimina parte del PDMS, dejando al descubierto una nueva zona de la superficie. Esta zona puede funcionalizarse posteriormente mediante la química adecuada. El ancho de la estructura resultante se controla mediante el agente de grabado y el tiempo.

Para aplicar esta técnica en la producción de pequeños patrones, es necesario que la superficie pueda reaccionar para pasivarla en el área expuesta por el canal, seguido de un grabado y luego una reacción que solo ocurrirá en el área recién expuesta.

Perring M., Mitchell, M., Kenis PJA, Bowden NB, Chem. Mat 2007 19 (11), 2903