Valentin Borisovich Aleskovsky ( en ruso : Валенти́н Бори́сович Алеско́вский ; 3 de junio de 1912 - 29 de enero de 2006) fue un científico y administrador soviético y ruso conocido por su investigación pionera sobre reacciones superficiales que sustentaron la técnica de deposición de películas delgadas que años más tarde se conocería como deposición de capas atómicas . Fue rector del Instituto Tecnológico de Leningrado (1962-75) y de la Universidad Estatal de Leningrado (1975-1986). [ 1 ]
Biografía
Aleskovsky nació en Mary, Turkmenistán , que entonces formaba parte del Imperio ruso, en el seno de la familia de Boris Nikolayevich Aleskovsky y su esposa, Anna Sergeyevna Aleskovsky. En 1931, tras graduarse en la escuela secundaria, ingresó en el departamento de turnos del Instituto Tecnológico de Leningrado, donde estudiaba medio año al año y durante la otra mitad trabajaba como obrero en la fábrica experimental del Instituto Estatal de Química Aplicada .
Tras graduarse en el Instituto Tecnológico de Leningrado en 1937, trabajó durante un año en el Instituto de Investigación y Desarrollo de la Armada (НИИ военно-морского флота) e ingresó en la escuela de posgrado del Instituto Tecnológico de Leningrado.
En 1940, recibió su título de Kandidat (considerado equivalente a un doctorado) por esta disertación " Sílice activa ". [ 2 ]
En junio de 1941, se alistó en el Ejército Rojo , donde sirvió como jefe del Servicio Químico del 891.er Regimiento de Fusileros de la 189.ª División del Frente de Leningrado . En 1943, resultó herido en la batalla de las alturas de Pulkovo . Tras recuperarse del hospital, sirvió en el 102.º Regimiento de Artillería. Participó en las batallas de Pskov , los estados bálticos , los Balcanes , Hungría y Checoslovaquia , y recibió numerosas condecoraciones y medallas militares. [ 2 ]
Desde septiembre de 1945, trabajó como profesor asistente en la cátedra de Química Física del Instituto Tecnológico de Leningrado. En 1949, fue nombrado director de la cátedra de Química Analítica del instituto. En 1965, fue nombrado rector del Instituto Tecnológico de Leningrado. En 1972, fue elegido miembro correspondiente de la Academia de Ciencias de la Unión Soviética . [ 2 ]
En 1975, fue nombrado rector de la Universidad Estatal de Leningrado. En este cargo, supervisó el controvertido traslado de los departamentos de ciencias de la universidad a Petrodvorets . Durante su mandato como rector del Instituto Tecnológico de Leningrado y de la Universidad Estatal de Leningrado, Aleskovsky dedicó la mayor parte de su tiempo a tareas administrativas. Fue presidente del Consejo de Rectores de las Escuelas Superiores de Leningrado y fundó la Sección de Leningrado de la Academia Soviética de Ciencias. [ 2 ]
Recubrimiento molecular - Deposición de capas atómicas
La tesis de Aleskovsky de 1952 contiene la llamada hipótesis de la matriz, que sirvió de base para los experimentos con Koltsov y otros colaboradores, lo que posteriormente condujo a una técnica de deposición de películas delgadas que denominaron estratificación molecular. [ 3 ] Actualmente, a nivel internacional, esta técnica se conoce como deposición de capas atómicas . [ 4 ] [ 5 ]
Esta técnica, que se basa en el uso de reacciones superficiales autolimitantes complementarias para depositar materiales capa por capa, fue desarrollada posteriormente de forma independiente por Tuomo Suntola bajo el nombre de epitaxia de capa atómica . [ 6 ] [ 5 ]
Referencias
- ↑ «Валентин Борисович Алесковский (3 de junio de 1912 – 29 de enero de 2006)» . Museo de LTI-GTI . Archivado desde el original el 15 de febrero de 2016 . Consultado el 5 de junio de 2016 .
- 1 2 3 4 "Valentin Aleskovskii" . Universidad Estatal de San Petersburgo . Consultado el 3 de octubre de 2016 .
- ^ Malygin, Anatolii A.; Drozd, Víctor E.; Malkov, Anatolii A.; Smirnov, Vladimir M. (3 de octubre de 2016). "De la hipótesis del" marco "de VB Aleskovskii al método de estratificación molecular / deposición de capas atómicas". Deposición química de vapor . 21 (10–11–12): 216– 40. doi : 10.1002/cvde.201502013 . ISSN 1521-3862 .
- ↑ Puurunen, Riikka L. (2005-06-15). "Química de superficies de la deposición de capas atómicas: un estudio de caso para el proceso de trimetilaluminio/agua" (PDF) . Journal of Applied Physics . 97 (12): 121301–121301–52. Bibcode : 2005JAP....97l1301P . doi : 10.1063/1.1940727 . ISSN 0021-8979 .
- 1 2 Ahvenniemi, Esko; Akbashev, Andrew R.; Ali, Saima; Bechelany, Mikhael; Berdova, Maria; Boyadjiev, Stefan; Cameron, David C.; Chen, Rong; Chubarov, Mikhail (16 de diciembre de 2016). "Artículo de revisión: Lista de lecturas recomendadas de publicaciones tempranas sobre deposición de capas atómicas: resultado del "Proyecto virtual sobre la historia de ALD"" . Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films . 35 (1): 010801. doi : 10.1116/1.4971389 . hdl : 10138/313116 . ISSN 0734-2101 .
- ^ Puurunen, Riikka L. (3 de octubre de 2016). "Una breve historia de la deposición de capas atómicas: epitaxia de la capa atómica de Tuomo Suntola" . Deposición química de vapor . 20 (10–11–12): 332– 44. doi : 10.1002/cvde.201402012 . ISSN 1521-3862 .
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